长鑫存储量产光刻曝光设备经理-Fab Litho Scanner Equipment Manager(J19272)

1.教育背景与专业知识：硕士及以上学历，微电子、材料、物理、化学工程等光刻相关专业； 2.行业与专业经验：12英寸晶圆厂光刻（Photo）工艺开发/量产经验≥8年，兼具研发与量产背景者优先； 3.

1.教育背景与专业知识：机械/材料专业背景，能分析设备结构缺陷； 2.行业与专业经验：12英寸晶圆厂5年以上设备工程经验；精通光刻设备（Scanner）原理及维护，熟悉ASML机型； 3.其他要求

1.本科或以上学历，优先考虑微电子学、材料科学、化学工程或相关工程专业； 2.10年以上半导体Track经验，需有光刻工艺或缺陷分析背景，熟悉轨道系统（如涂胶机、显影机）和缺陷检测设备（如KLA工具）

1.本科及以上学历，微电子、材料科学、化学工程等相关专业； 2.10年以上半导体光刻工艺经验，其中至少3年团队管理经验。精通光刻胶特性、曝光机台（如ASML）操作及工艺整合； 3.带领团队完成量产任务