长鑫存储量产光刻曝光设备经理-Fab Litho Scanner Equipment Manager(J19272)

1.制程问题攻坚：主导光刻工艺异常的根本原因分析，制定解决方案并推动落地； 2.工艺优化与创新：通过参数调优、新材料/设备评估，持续提升量产良率与效率； 3.技术路线开发：领导下一代光刻工艺的预研与技术突破； 4.专案与团队管理：统筹跨部门专案（如良率提升、成本优化），指导工程师团队达成目标。

1.设备全周期管理：基于研发需求制定先进设备选型方案，主导设备导入、调试及持续优化；通过设备寻源/改造及严格验证（如匹配工艺参数），提升机台产能与良率； 2.供应商体系构建：设计厂商评估标准（技术/服务/成本），制定分阶段设备导入计划；联合厂商研发定制化设备； 3.技术攻坚：解决光刻机台稳定性问题（如overlay精度、defect控制）。

1.监控Track机台的缺陷数，识别缺陷根因（如颗粒污染、工艺参数偏移），确保良率达标（如减少缺陷率）； 2.管理缺陷课团队（包括工程师和技术员），分配任务、提供培训、执行绩效评估及团队建设； 3.主导光刻缺陷相关项目，推动改进措施（如优化涂胶/显影参数或引入新检测技术），支持良率提升； 4.跨部门协作，与Scanner设备、整合部门联动，确保全流程缺陷控制。

1.制定团队目标并分解至个人，监督执行进度；协调跨部门资源（如设备、量测），保障生产计划达成。 2. 负责新产品技术导入成功量产，主导OEE（设备综合效率）提升，降低CoO（单位成本）； 3.团队的搭建与培养。