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长鑫存储光刻工艺研发专家 TD Lithography Process Expert(J21183)

社招全职10年以上研发技术类地点:合肥 | 北京状态:招聘♡ 收藏

工作描述


任职要求
1.教育背景与专业知识:硕士及以上学历,微电子、物理、化学、材料科学或光学工程等相关专业,具备扎实的半导体器件物理与光刻理论功底;
2.专业技能与资格:能使用JMP、MATLAB或Python完成SPC及CD-SEM数据分析,具备PMP或敏捷开发项目管理资质者优先,能流利阅读并撰写英文技术文档和专利;
3.行业与专业经验:10年以上半导体光刻研发工作经验,熟悉半导体制造全流程(FEOL/BEOL),精通光刻工艺核心指标(如NA、DOF、EL、LWR),熟悉ASML、Nikon、Canon光刻设备及KLA、Hitachi配套检测设备,具备光刻胶、抗反射层(BARC)及显影工艺优化实战经验;
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包括英文材料
学历+
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