logo of cxmt

长鑫存储光罩研发工程师/专家 | TD Mask MT/RM Engineer/Expert(J12136)

社招全职5年以上研发技术类地点:合肥状态:招聘

任职要求


1. 学历:硕士及以上,优质院校背景
2. 专业:理工科相关
3. 工作经验:litho5年以上经验,光罩厂背景优先;
4. 技能技巧:熟悉光罩生产制造流程,具备缺陷判断及处理能力
5. 工作态度:工作认真负责,具有良好的组织协调能力和团队合作精神;
6. 英语能力:文件编写及汇报

工作职责


1.光罩制作技术开发;
2.光罩相关问题分析处理;
3.管理系统建立与开发;
4.整体品质监控管理;
5.光罩相关本土化设备评估导入
6.CDC操作与开发。
包括英文材料
学历+
相关职位

logo of cxmt
社招5年以上研发技术类

1.光罩数据数据处理 Tooling form 编辑,转档 CDM 制作 2.Tape-out 系统开发与管理; 3.Tape-out 全流程的自动化开发 4. Frame 布局设计及mark 设计; 5. 国产化mask EDA 开发

更新于 2025-09-30
logo of cxmt
社招5年以上研发技术类

1. Frame 布局设计及 marK设计; 2. Kerf rule building; 3. Mask tape-out 流程自动化开发; 4. 提供产品框架图设计的解决方案;

更新于 2025-09-19
logo of cxmt
社招研发技术类

1.负责新产品制程技术的研发和维护,包含光刻/光罩/蚀刻/清洗/化学机械研磨/扩散/离子注入/薄膜等; 2.与设计/器件/工艺整合和可靠性等相关部门通力合作,满足新产品制程的电性/可靠性/良率与成本要求; 3.主导新型机台和新型材料的合作研发和评估开发,协同制定和实现未来的技术发展线路; 4.负责研发效率提升以缩短新产品研发周期,包含工艺仿真开发/研发数据智能分析/项目资源管理等; 5.负责与量产部门的无缝技术转移,以尽量缩短新产品上市周期。

更新于 2025-09-30
logo of cxmt
社招3年以上研发技术类

1.进行先进CMOS工艺平台研发工作。 2.开发CMOS工艺的PDK(Design Rule, EDR, Device Model...),同时整合优化制程与前后道工艺实现兼容,最终实现高速低漏电的电学性能能,高可靠性的终端产品要求。 3.新产品导入以及良率提升。从与design合作开始参与新产品设计评估;与tapeout team合作设计testkey,tape out光罩;与制程和生产部门合作pilot run;不断进行工艺整合的优化升级,提升电学性能,可靠性能以及良率

更新于 2025-09-19